年代，光刻机的生产商碰到了一个技术关卡：光刻机使用的光源是193纳米的，它就限制了光刻机的继续升级！

　　想要凋刻东西越精细，刀子就得越锋利，193纳米的激光已经不够细了，接下来该怎么办呢？

　　尼康作为科技巨头，想的办法也很简单，直接换用157纳米的f2激光，这样就能解决问题了。

　　而为了对抗尼康成立的euvllc联盟则押注更激进的极紫外技术，将光源切换成十几纳米的极紫外光，这样不仅仅能解决现有的问题，还能一直用到以后，刻十纳米以下的芯片制程都没问题。

　　但是，这两种技术都不容易，都面临着技术难关，这就是九十年代最出名的193纳米关卡！

　　凡是遇到难关的时候，总是有天才出现的，现在也不例外，一个名叫林本坚的鬼才工程师出现了。

　　当光线透过水之后，频率不变，但是波长会发生变化，这就是水的折射率，所以，只要在光刻机的光源和硅片之间加一层水，让原本的193纳米的激光发生一次折射，不就能大大地降低了吗？

　　简单计算就能知道，波长会降低到132纳米！

　　这样，不仅仅能降低了光刻机的波长，刻蚀更加精密的电路，而且，对机器的改动还最小！

　　以前的就叫做干刻法，现在可以叫做湿刻法了！

　　林本坚提出来了这项技术，兴致勃勃地跑出去推销，但是，全部都吃了闭门羹！

　　美国、德国、日本，一个个的光刻机巨头，面对着这个说法都是嗤之以鼻：在精密的机器中加入水，成为一个浸润环境，就不怕水漏了吗？短期来看，这个办法可能会成功，但是长期来看，根本就是在走弯路！

　　尤其是巨头尼康，决定在157纳米的光源上研究，根本就不搭理林本坚这种歪门邪道。

　　就像是数码相机一样，当年柯达首先研制出来数码相机，但是害怕因此威胁到胶片的生意，所以他们采用的办法就是将数码相机藏起来，不让别人知道！

　　尼康在157纳米的道路上走到黑，而此时名不经传的阿斯麦却注意到了这个弯道超车的机会，对他们来说，这是一个迅速追赶世界先进水平的机会！

　　所以，他们接受了林本坚的技术，研发起来了浸润式光刻机，不过，这已经是03年的事情了，仅仅一年的时间，也就是04年，他们就制造出来了样机，然后迅速拿下了ibm和台积电等等大客户的订单。

　　尼康仅仅晚了不到一年的时间，把自己的是157纳米激光的干式光刻机技术弄成功了，但是，客户却不要了！一代巨头尼康就这样衰落了，而阿斯麦从此成为了光刻机行业的老大。

　　这段历史，对于秦涛这个造船工程师，也是有所耳闻的，所以现在，他如果想要弯道超车的话

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